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可清洗例如：附着颗粒数… 10个/W以下（0.08μm以上的粒子）
参考：槽式的情况下200/W
实施例
药液…1％dHF，20ℓ/天
纯水…每枚晶片处理需要0.5〜1ℓ/分钟
8英寸晶片情况下，
设备主体1100（长），800（宽），1900（高）
药液供给装置510（长），800（宽），1800（高）
